PECVD系统由管式炉,石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。该PECVD系统具有薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等点。
PECVD系统主要使用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
RF射频电源
射频收发核心电路射频即Radio Frequency,通常缩写为RF。表示可以辐射到空间的电磁频率,频率范围从300KHz~30GHz之间。射频电源(RF generator)是用来产生射频电功率的电源。
设备名称 |
乐发II RF射频电源 |
乐发II 功率输出范围 |
乐发II 0-500W |
乐发II 额定反射功率 |
200W |
乐发II 工作频率 |
射频:13.56MHZ±0.005% |
功率稳定度 |
+/-0.1% |
谐波分量 |
乐发II ≤-50dbc |
乐发II 射频区域宽度 |
0-600mm 可调 |
匹配方式 |
自动 |
冷却方式 |
分冷 |
噪声 |
<50dB |
乐发II 射频接口 |
50Ω N-type |
乐发II 输入电源 |
208-240V 50/60HZ
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